磁控共溅射制备氮化钛铝薄膜及其机械性能的研究

• 作者: 倪晟 孙卓 赵强
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: TiAlN薄膜 磁控共溅射 纳米压痕仪 机械性能
• 年，卷（期）: 2005,（12）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 1842-1844,1848
• 页数: 4页
• 分类号: TB139
• 字数: 2653字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2005.12.009

摘要

使用磁控共聚焦溅射技术并改变溅射过程中Al的功率来制备了一系列A1含量不同的氮化钛铝(TiAlN)薄膜.在溅射过程,薄膜沉积速率和Al含量随Al的溅射功率增加而增大,而薄膜的粗糙度减小.Al含量较低时(约21%),TiAlN薄膜的硬度和弹性模量都高于TiN薄膜.而Al含量较高时(＞26%),薄膜的硬度和弹性模量也随含量增加减小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙卓	华东师范大学物理系纳米功能材料与器件应用研究中心	39	200	8.0	11.0
2	赵强	华东师范大学物理系纳米功能材料与器件应用研究中心	21	47	3.0	6.0
3	倪晟	华东师范大学物理系纳米功能材料与器件应用研究中心	3	35	3.0	3.0