氩环境气压对激光烧蚀沉积纳米硅薄膜形貌的影响

• 作者: 周阳 武德起 王晓菲 王英龙 褚立志 闫常瑜
• 来源期刊: 河北大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 脉冲激光烧蚀 纳米硅 形貌
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 29-32
• 页数: 4页
• 分类号: O78
• 字数: 881字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-1565.2005.01.008

摘要

采用脉冲激光烧蚀技术在氩气环境下制备了纳米硅薄膜,研究了环境气体压强对纳米硅薄膜表面形貌的影响. 结果表明,当环境气压小于50 Pa时,薄膜表现为常规的量子点镶嵌结构;当环境气压大于50 Pa时,薄膜中出现类网状的絮结构,继续增大氩气压,絮结构逐渐增大,且其隙度增大. 指出该现象与在激光烧蚀过程中纳米硅团簇的形成过程有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	褚立志	河北大学物理科学与技术学院	47	155	7.0	10.0
2	王英龙	河北大学物理科学与技术学院	96	301	9.0	12.0
3	闫常瑜	河北大学物理科学与技术学院	5	47	4.0	5.0
4	周阳	河北大学物理科学与技术学院	21	130	7.0	11.0
5	武德起	河北大学物理科学与技术学院	7	42	3.0	6.0
6	王晓菲	河北大学物理科学与技术学院	11	13	2.0	3.0