溶液配比及电参数对钛阴极微弧电沉积氧化铝涂层的影响

• 作者: 憨勇 李新梅 李银锁
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 工学
• 关键词: 钛 氧化铝涂层 阴极微弧电沉积 溶液配比 电参数
• 年，卷（期）: 2005,（7）
• 页码范围: 799-805
• 页数: 7页
• 分类号: TQ174.1
• 字数: 3414字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0454-5648.2005.07.002

摘要

用阴极微弧电沉积在钛表面生成Al2O3涂层,探讨溶液组成、放电电压及时间对涂层形貌、相组成及生长速率的影响.结果表明:涂层由α-Al2O3和γ-Al2O3组成.随溶液中Al(NO3)3含量的增加,α-Al2O3含量和涂层生长速率均先增后减.电导率决定了Al(NO3)3的摩尔浓度为0.2 mol/l时是较佳值.乙醇与水的体积比对溶液的起弧影响很大,过高的含水量因溶剂效应大而不利于阴极微弧电沉积.随电压升高,涂层的生长速率增加,α-Al2O3的含量增加.400 V时,α-Al2O3含量可达76%.延长放电时间,涂层的生长速率亦先快后慢.120 min时,涂层厚度可达100μm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	憨勇	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	56	1174	19.0	31.0
2	李新梅	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	2	43	2.0	2.0
3	李银锁	西安交通大学金属材料强度国家重点实验室	2	43	2.0	2.0