纳米锗颗粒膜的结构与拉曼散射

• 作者: 华文宇 叶祥 孟大润 肖维超
• 来源期刊: 材料研究与应用
• 关键词: 直流磁控溅射 Ge 纳米颗粒膜 拉曼散射
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 页码范围: 22-25
• 页数: 4页
• 分类号: TG115.22
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-9981.2005.01.007

摘要

用直流磁控溅射方法制备的纳米Ge颗粒膜.通过XRD表征和LRS谱分析,发现沉积态颗粒膜主要为无定形态的Ge团簇,同时在溅射沉积过程中有少量Ge被氧化成非晶态的GeO.颗粒膜经过真空退火处理,形成纳米级的Ge晶和GeO晶体.退火态的膜层结构比沉积态的疏松.对于薄膜纳米颗粒的结构,提出Core-Shell结构模型,解释了Raman散射谱中新出现的150 cm-1和215 cm-1的Raman散射峰.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孟大润	南京大学材料科学与工程系	1	0	0.0	0.0
5	叶祥		2	6	1.0	2.0
6	华文宇	南京大学材料科学与工程系	1	0	0.0	0.0