利用脉冲激光沉积技术在双轴织构的Ni基带上外延CeO2薄膜

• 作者: 刘震 周岳亮 王淑芳 赵嵩卿
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 双轴织构的Ni基带 CeO2薄膜 脉冲激光沉积
• 年，卷（期）: 2005,（12）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:结构、热学和力学性质
• 页码范围: 5820-5823
• 页数: 4页
• 分类号: O4
• 字数: 2146字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.12.054

摘要

利用脉冲激光沉积技术在氢还原气氛下成功地在双轴织构的Ni基带上外延了高质量的CeO2薄膜.x射线衍射θ-2θ扫描和ω扫描结果表明,CeO2薄膜在Ni基带上呈c轴方向生长,存在很强的平面外织构;极图和ψ扫描显示它具有良好的平面内织构.Ni基片上织构的CeO2薄膜为进一步在其上外延高质量的YBa2Cu3O7-x超导薄膜提供了很好的模板.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周岳亮	中国科学院物理研究所	24	142	6.0	11.0
2	王淑芳	河北大学物理科学与技术学院	16	24	3.0	4.0
3	刘震	中国科学院物理研究所	18	62	4.0	7.0
4	赵嵩卿	中国科学院物理研究所	2	6	2.0	2.0