工艺参数对Ti和NdFeB薄膜形态的影响

• 作者: 傅明喜 卢永惠 宗华 李岩 查燕青
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 薄膜 表面形态 加热控制 溅射功率
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 工艺研究
• 页码范围: 63-66
• 页数: 4页
• 分类号: TM271|O484.4
• 字数: 5511字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2005.05.020

摘要

采用磁控溅射法制备Ti、NdFeB薄膜,并研究分析了工艺参数对Ti薄膜及NdFeB磁性薄膜表面形态的影响.试验结果表明,在一定的工艺条件下,通过对基片的加热控制可以获得单一方向生长的柱状晶结构薄膜.随着溅射功率的提高,NdFeB薄膜的沉积均匀性降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	宗华	江苏大学材料科学与工程学院	8	25	4.0	4.0
2	傅明喜	江苏大学材料科学与工程学院	59	355	11.0	15.0
3	查燕青	江苏大学材料科学与工程学院	8	40	4.0	6.0
4	李岩	江苏大学材料科学与工程学院	11	45	4.0	6.0
5	卢永惠	江苏大学材料科学与工程学院	1	4	1.0	1.0