氮离子注入法合成CNx膜的化学键表征

• 作者: 曹培江 朱德亮 潘跃武 马晓翠
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 物理学
• 关键词: N离子注入 金刚石 化学键
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 学术论文
• 页码范围: 328-330,354
• 页数: 4页
• 分类号: O484.5
• 字数: 2288字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2005.05.003

摘要

采用N离子注入金刚石膜和热解石墨方法合成了CNx膜,用Raman光谱和XPS谱对合成薄膜中C、N的化学键合状态进行了研究.通过与Raman光谱的比较,我们对合成样品XPS谱中N1s的化学键合状态作出如下归属:≈400.0 eV属于sp2 C-N键;≈398.5 eV则属于sp3 C-N键.结果显示:碳原子、氮原子间的化学键合状态,明显地依赖于衬底材料及注入N离子的能量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马晓翠	深圳大学理学院深圳市特种功能材料重点实验室	20	99	4.0	9.0
2	朱德亮	深圳大学理学院深圳市特种功能材料重点实验室	13	14	2.0	2.0
3	曹培江	深圳大学理学院深圳市特种功能材料重点实验室	12	24	3.0	4.0