磁控溅射技术进展及应用(下)

• 作者: 徐万劲
• 来源期刊: 现代仪器与医疗
• 关键词: 磁控管 溅射率 非平衡磁控溅射 闭合场非平衡磁控溅射 自溅射
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 综述与专论
• 页码范围: 5-10
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7916.2005.06.002

摘要

近年来磁控溅射技术的应用日趋广泛,在工业生产和科学研究领域发挥巨大作用.随着对具有各种新型功能的薄膜需求的增加,相应的磁控溅射技术也获得进一步的发展.本文将介绍磁控溅射技术的发展,以及闭合磁场非平衡溅射、高速率溅射及自溅射、中频及脉冲溅射等各种新技术及特点,阐述磁控溅射技术在电子、光学、表面功能薄膜、薄膜发光材料等许多方面的应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐万劲	北京大学物理学院	9	351	2.0	9.0