常压烧结Si3N4-MgO-Y2O3-CeO2陶瓷的研究

• 作者: 杨明辉 郝春云 高玲
• 来源期刊: 佛山陶瓷
• 关键词: 氮化硅 常压烧结 显微结构
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 研究与探讨
• 页码范围: 1-3
• 页数: 3页
• 分类号: TQ17
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-8236.2005.04.001

摘要

本文研究了Si3N4-MgO-Y2O3-CeO2陶瓷的烧结过程和微观结构,常压烧结氮化硅陶瓷的致密化主要通过液相烧结实现.微观分析结果表明,氮化硅烧结体的显微结构为等轴状的α-Si3N4和长柱状的B-Si3N4相互交织,这种结构有利于提高烧结体的强度和韧性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	高玲	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	25	205	9.0	13.0
2	杨明辉	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	8	71	5.0	8.0
3	郝春云	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	7	66	5.0	7.0