不锈钢衬底的抛光处理对碳纳米管薄膜场发射性能的影响

• 作者: 姚宁 张兵临 朱庆芳 杨仕娥 樊志琴 鲁占灵
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 碳纳米管膜 场发射 MPCVD 拉曼光谱
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 页码范围: 954-959
• 页数: 6页
• 分类号: O462.4
• 字数: 1205字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2005.05.040

摘要

在抛光的和未抛光的不锈钢衬底上,利用微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)方法从甲烷和氢气的混合气体中沉积碳纳米管薄膜,并对其场发射性能进行了研究.实验发现,不锈钢衬底的机械抛光能降低碳纳米管膜的开启场强,增大它的发射电流密度.在同一场强7.5 V/μm下,衬底未抛光样品的电流密度为2.9 mA/cm2,而衬底抛光样品的电流密度达到5.5 mA/cm2.低开启场强和大发射电流密度意味着β增大,说明机械抛光能使碳纳米管膜的β增大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚宁	郑州大学材料物理教育部重点实验室	122	692	12.0	18.0
2	张兵临	郑州大学材料物理教育部重点实验室	95	608	12.0	18.0
3	鲁占灵	郑州大学材料物理教育部重点实验室	25	166	8.0	11.0
4	杨仕娥	郑州大学材料物理教育部重点实验室	68	513	12.0	18.0
5	樊志琴	河南工业大学数理系	30	115	6.0	9.0
6	朱庆芳	河南工业大学数理系	14	127	7.0	11.0