非平衡磁控溅射系统离子束流磁镜效应模型

• 作者: 李国卿 牟宗信 秦福文 车德良 黄开玉
• 来源期刊: 物理学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 等离子体 金属薄膜/非磁性 磁控溅射 磁镜
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 1378-1384
• 页数: 7页
• 分类号: O4
• 字数: 5086字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-3290.2005.03.066

摘要

为了研究非平衡磁控溅射沉积系统的等离子体特性,采用常规磁控溅射靶和同轴约束磁场构成非平衡磁控溅射沉积系统.在放电空间不同的轴向位置,Ar放电,0.2Pa和150V偏压条件下,采用圆形平面离子收集电极,测量不同约束磁场条件下的饱和离子束流密度.研究结果表明,在同轴磁场作用下,收集电极的离子束流密度能达到饱和值9mA/cm2左右,有利于在沉积薄膜的过程中产生离子轰击效应.根据磁流体理论分析了同轴约束磁场形成的磁镜效应和对放电过程的影响机理.实验与模型计算结果的比较表明,模型从理论上表达了同轴磁场约束对非平衡磁控溅射等离子体特性的影响规律.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	秦福文	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	40	235	8.0	14.0
2	李国卿	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	58	411	12.0	16.0
3	牟宗信	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	38	217	10.0	12.0
4	黄开玉	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	7	53	4.0	7.0
5	车德良	大连理工大学三束材料改性国家重点实验室	4	25	3.0	4.0