二代近贴聚焦像增强器纳秒响应技术研究

• 作者: 徐江涛
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 近贴聚焦像增强器 光电阴极 纳秒时间响应
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 47-49
• 页数: 3页
• 分类号: TN114
• 字数: 1859字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2005.01.012

摘要

从理论上对光电阴极面发射电子过渡过程进行分析,光电阴极面电阻是影响光电发射过渡过程的主要因素.通过对光电阴极制备技术改造,使二代近贴聚焦像增强器的管子时间响应小于2ns.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐江涛	西安应用光学研究所二室	21	106	6.0	9.0