化学气相沉积制备钼钨合金

• 作者: 周美玲 毕安园 王从曾 马捷
• 来源期刊: 真空科学与技术学报
• 学科: 工学
• 关键词: 化学气相沉积 钼合金 工艺
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 技术交流
• 页码范围: 229-232
• 页数: 4页
• 分类号: TG146
• 字数: 1779字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7126.2005.03.018

摘要

以MoF6、WF6以及H2为原料,用化学气相共沉积的方法,成功地在铜基片表面沉积出钼钨合金.实验分析表明:沉积层结构为单相均匀固溶体.在钼含量高时沉积层显微组织呈细晶层状结构,在钼含量较低时沉积层显微组织呈柱状晶生长.改变反应气体中WF6、MoF6相对含量可实现膜层成分可控.采用化学气相沉积法沉积钼钨等难熔金属合金,沉积纯度高,设备简单,沉积速率快,在高温抗烧蚀涂层及耐腐蚀涂层方面具有广泛的应用前景.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马捷		6	102	6.0	6.0
2	王从曾		6	102	6.0	6.0
3	毕安园		2	50	2.0	2.0
4	周美玲		2	50	2.0	2.0