Ge1-xCx薄膜的制备及红外特性的研究

• 作者: 吴小文 张维佳 钟立志 黄浩
• 来源期刊: 材料工程
• 关键词: Ge1-xCx薄膜 PECVD 红外特性 沉积速率
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与应用
• 页码范围: 53-57
• 页数: 5页
• 分类号: TN213
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4381.2005.01.013

摘要

利用等离子体化学气相沉积(PECVD)法制备出Ge1-xCx薄膜,并系统地研究了工艺参数对薄膜成分的影响,以及不同组分Ge1-xCx薄膜的红外光学特性.结果表明,薄膜中的C含量随着CH4/GeH4气体流量比的增大而增大;薄膜的红外折射率随组分的不同在2～4范围内变化;薄膜的沉积速率随射频功率增大而增大,但当功率达到60 W以后其变化不明显;沉积速率随温度的增加而减少;该薄膜具有透长波红外的性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张维佳	北京航空航天大学材料物理与化学研究中心	18	162	8.0	12.0
2	黄浩	北京航空航天大学材料物理与化学研究中心	17	360	6.0	17.0
3	吴小文	北京航空航天大学材料物理与化学研究中心	7	60	4.0	7.0
4	钟立志	北京航空航天大学材料物理与化学研究中心	6	57	4.0	6.0