透明导电薄膜在不同衬底上的性能对比研究

• 作者: 孙超 徐成海 曹洪涛 裴志亮 闻立时 陆峰
• 来源期刊: 材料保护
• 学科: 物理学
• 关键词: ZAO薄膜 衬底 直流磁控溅射 性能 XRD衍射分析 电阻率 透射率
• 年，卷（期）: 2005,（7）
• 所属期刊栏目: 理论探讨
• 页码范围: 5-7
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2171字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-1560.2005.07.002

摘要

为了对比研究不同透明衬底上ZnO:Al(ZAO)薄膜的性能,采用直流反应溅射法制备薄膜,并对其作EDS、XRD和电学测试分析.结果表明:所制备的ZAO薄膜具有典型的ZnO晶体结构;沉积在玻璃基片上的ZAO薄膜,Al,O含量高于沉积在透明聚酯塑料基片上的,而Zn的含量则相反;在两种衬底上获得的ZAO薄膜电阻率分别为4.5×10-4Ω*cm和9.73×10-4Ω*cm,可见光透射率分别达到87.7%和81.5%.由此可见:用直流反应磁控溅射法在不同衬底上都能获得可见光透射率达到80%以上的ZAO薄膜;相比而言,在玻璃衬底上获得的ZAO薄膜电阻率低,而在透明聚酯塑料上沉积的ZAO薄膜透射性好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐成海	东北大学机械工程与自动化学院	133	1297	21.0	27.0
2	孙超	中国科学院金属研究所	126	1708	23.0	34.0
3	闻立时	中国科学院金属研究所	117	1859	24.0	36.0
4	陆峰	沈阳建筑大学交通与机械工程学院	9	192	7.0	9.0
6	裴志亮	中国科学院金属研究所	19	425	12.0	19.0
9	曹洪涛	中国科学院金属研究所	2	59	2.0	2.0