超薄铝膜的制备与透光率的研究

• 作者: 付光宗 刘高彬 廖克俊 杨丰帆 杨小红
• 来源期刊: 中国机械工程
• 关键词: 超薄铝膜 透射率 光学性质 直流磁控溅射
• 年，卷（期）: 2005,（z1）
• 所属期刊栏目: 微纳米材料及特性
• 页码范围: 352-354
• 页数: 3页
• 分类号: TB43
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1004-132X.2005.z1.123

摘要

当铝(Al)膜的厚度在100nm时,可以作为一种光学薄膜使用.用这种超薄铝膜制成光学元件具有耐激光以及损耗小等特点,在大功率激光系统中将得到应用.利用高纯铝靶,运用直流磁控溅射法制备了超薄铝膜,利用双光束分光光度计研究了其光学性质,测试了超薄铝膜的制备条件,如工作压强、靶基距、溅射时间等对薄膜的光学性质的影响.得到了工作压强、靶基距及溅射功率与薄膜的光学性质之间的关系.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	廖克俊		66	513	12.0	19.0
2	付光宗		7	51	4.0	7.0
3	杨丰帆		6	25	3.0	4.0
4	杨小红		2	8	1.0	2.0
8	刘高彬		1	7	1.0	1.0