多晶硅薄膜制备技术的研究进展

• 作者: 康建波 彭英才 简红彬 马蕾
• 来源期刊: 河北大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: 多晶硅薄摸 低压化学气相淀积 热丝化学气相淀积 固相晶化 激光诱导晶化 金属诱导晶化
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 学科综述
• 页码范围: 97-103
• 页数: 7页
• 分类号: O484
• 字数: 5285字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-1565.2005.01.023

摘要

多晶硅薄膜是当前在能源科学和信息技术领域中广泛使用的功能材料,它兼具单晶硅和氢化非晶硅(a-Si:H)的优点.本文评论了近几年多晶硅薄膜制备技术的研究进展,着重讨论了每种方法薄膜的淀积机理,并预测了多晶硅薄膜制备技术的未来发展趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	简红彬	河北大学电子信息工程学院	4	60	4.0	4.0
2	康建波	河北大学电子信息工程学院	5	63	4.0	5.0
3	马蕾	河北大学电子信息工程学院	43	157	8.0	10.0
4	彭英才	河北大学电子信息工程学院	103	593	12.0	19.0