7740玻璃湿法腐蚀凹槽及槽内光刻图形的研究

• 作者: 冯勇建 林雁飞 郑志霞
• 来源期刊: 厦门大学学报（自然科学版）
• 学科: 工学
• 关键词: 微传感器 湿法腐蚀 曝光 显影
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 370-372
• 页数: 3页
• 分类号: TN305
• 字数: 1659字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0438-0479.2005.03.021

摘要

用玻璃腐蚀工艺制作MEMS器件,腐蚀非常困难.通过对PYREX7740玻璃在Buffer溶液中腐蚀速率的研究发现,PYREX7740玻璃腐蚀1 μm的槽需要25 min,而作为掩膜的光刻胶在腐蚀液中只能保持10 min不浮胶.为此,文中详细介绍了运用一次光刻,多次坚膜,多次腐蚀的工艺,来达到对PYREX7740玻璃进行深腐蚀的方法.实验结果表明,光刻胶厚度、坚膜时间、坚膜次数和坚膜温度都与光刻胶的浮胶有关,最后给出了不同条件下凹槽深度与所需的曝光和显影时间的关系,槽越深需要的曝光和显影时间越长.这对于用PYREX7740玻璃制作MEMS器件具有重要意义.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	冯勇建	厦门大学微机电中心	103	953	15.0	26.0
2	郑志霞		34	267	8.0	15.0
3	林雁飞	厦门大学机电工程系	6	52	4.0	6.0