紫外光固化有机硅隔离剂的研究

• 作者: 何华 李冰 陶永杰
• 来源期刊: 粘接
• 学科: 工学
• 关键词: 紫外光固化 丙烯酰氧烃基改性聚硅氧烷 有机硅隔离剂
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 研究报告及专论
• 页码范围: 7-9
• 页数: 3页
• 分类号: TQ433.4+38
• 字数: 2992字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-5922.2005.06.003

摘要

以氯丙基聚硅氧烷和丙烯酸-β-羟丙酯(HPA)在三乙胺催化作用下得到丙烯酰氧烃基改性聚硅氧烷,然后使之与活性稀释剂共混,在紫外光照射下固化成膜.讨论了投料比、促进剂用量、不同光引发剂、稀释剂用量对光固化反应的影响.