VHF-PECVD制备微晶硅薄膜及其微结构表征研究

• 作者: 孙建 张晓丹 朱锋 熊绍珍 耿新华 赵颖 高艳涛 魏长春
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 甚高频等离子体增强化学气相沉积(VHF-PECVD) 微晶硅 衬底温度
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 页码范围: 475-478
• 页数: 4页
• 分类号: TK514
• 字数: 1422字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2005.03.020

摘要

采用VHF-PECVD技术制备了系列不同衬底温度的硅薄膜.运用微区拉曼散射(Micro-Raman)和X射线衍射(XRD)对薄膜进行了结构方面的测试分析.Micro-Raman测试结果表明:随衬底温度的升高,薄膜逐渐由非晶向微晶过渡,晶化率(Xc)逐渐增大.XRD的结果显示样品的择优取向随衬底温度的升高而变化,(220)方向计算得出样品的晶粒尺寸逐渐变大.