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摘要:
对两种MoSi2材料试样进行了侵蚀试验.利用XJG-04型金相显微镜和扫描电子显微镜,研究了MoSi2侵蚀后的显微组织,并对其侵蚀结果进行了探讨.研究发现,MoSi2基材料具有晶间腐蚀敏感性,采用HF+HNO3+H2O作为其晶界侵蚀剂是可行的.
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文献信息
篇名 金属间化合物MoSi2的晶界侵蚀方法研究
来源期刊 理化检验-物理分册 学科 工学
关键词 二硅化钼 晶界 侵蚀方法
年,卷(期) 2005,(4) 所属期刊栏目 实验技术与方法
研究方向 页码范围 181-183
页数 3页 分类号 TG115.2
字数 2087字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-4012.2005.04.006
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 周琦 兰州理工大学材料科学与工程学院 97 718 14.0 22.0
3 马勤 兰州理工大学材料科学与工程学院 100 610 12.0 20.0
9 郭铁明 兰州理工大学材料科学与工程学院 41 278 8.0 16.0
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晶界
侵蚀方法
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期刊影响力
理化检验-物理分册
月刊
1001-4012
31-1338/TB
大16开
上海市邯郸路99号
4-183
1963
chi
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4196
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10
总被引数(次)
16172
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