磁控反应溅射SnO2薄膜的气敏特性研究

• 作者: 李朝林
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 工学
• 关键词: 电子技术 磁控反应溅射 二氧化锡薄膜 气敏特性
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 4-6
• 页数: 3页
• 分类号: TN305.92|TN304.2
• 字数: 2495字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2005.01.003

摘要

为研究SnO2薄膜的气敏特性,采用直流磁控反应溅射法制备了SnO2薄膜.探讨和分析了SnO2薄膜气敏元件的敏感机理.对SnO2薄膜的电阻和灵敏度的测试以及对实验结果的分析表明:SnO2薄膜厚度在150～400 nm为宜,一般膜厚在250 nm时较为敏感.在SnO2薄膜中掺入Pd、Pt、Ag等微量杂质可大大提高SnO2薄膜气敏元件的灵敏度,且使灵敏度的峰值向低温方向移动,增强了对H2、CO和C2H5OH等可燃气体的选择性、响应时间由3 min缩短到0.5s以下.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李朝林	淮安信息职业技术学院电子与信息工程系	17	51	5.0	6.0