微粒场全息术中记录介质的选择和处理研究

• 作者: 刘振清 叶雁 李作友 李泽仁 罗振雄 郑贤旭 钟杰
• 来源期刊: 激光技术
• 学科: 物理学
• 关键词: 信息光学 记录介质 高斯光束 曝光量 微粒场全息
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 应用
• 页码范围: 617-619,638
• 页数: 4页
• 分类号: O438.1
• 字数: 2779字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3806.2005.06.029

摘要

针对微粒场全息记录的特点,讨论了记录介质的分辨率和记录介质大小的选择;分析了全息记录介质的感光成像原理,对激光能量的高斯分布和曝光量对微粒场记录的影响进行了研究,给出了光束位置和曝光量对实验的影响结果,并对选用的3种记录介质在给定的处理工艺下的特性曲线进行了对比测试;选定的SY-2型记录介质,记录微粒场时适宜的曝光量为180μJ/cm2.