快速热退火对a-Si:H/SiO2多层膜光致发光的影响

• 作者: 徐岭 徐骏 李伟 钱波 陈三 陈坤基 隋妍萍 韩培高 马忠元 黄信凡
• 来源期刊: 南京大学学报（自然科学版）
• 学科: 物理学
• 关键词: a-Si:H/SiO2多层膜 光致发光 快速热退火
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 硅基纳米光电子专栏
• 页码范围: 55-60
• 页数: 6页
• 分类号: O4
• 字数: 3446字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0469-5097.2005.01.008

摘要

采用在等离子体增强化学气相沉积(PECVD)系统中沉积a-Si:H和原位等离子体逐层氧化的方法制备a-Si:H/SiO2多层膜.用快速热退火对a-Si:H/SiO2多层膜进行处理,制备nc-Si/SiO2多层膜,研究了这种方法对a-Si:H/SiO2多层膜发光特性的影响.研究发现对a-Si:H/SiO2多层膜作快速热退火处理,可获得位于绿光和红光两个波段的发光峰.研究了不同退火条件下发光峰的变化.通过对样品的TEM、Raman散射谱和红外吸收谱的分析,探讨了a-Si:H/SiO2多层膜在不同退火温度下的光致发光机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	黄信凡	南京大学物理系	11	88	4.0	9.0
2	徐骏	南京大学物理系	22	38	3.0	4.0
3	李伟	南京大学物理系	61	167	6.0	10.0
4	陈坤基	南京大学物理系	31	53	5.0	6.0
5	钱波	南京大学物理系	3	4	1.0	2.0
6	徐岭	南京大学物理系	6	45	3.0	6.0
7	马忠元	南京大学物理系	5	15	3.0	3.0
8	韩培高	南京大学物理系	1	3	1.0	1.0
9	隋妍萍	南京大学物理系	2	3	1.0	1.0
10	陈三	南京大学物理系	1	3	1.0	1.0