薄膜厚度对ZnO:Ga透明导电膜性能的影响

• 作者: 余旭浒 张锡健 王玉恒 程传福 计峰 马洪磊 马瑾
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 ZnO:Ga 薄膜厚度 光电性质
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 241-243
• 页数: 3页
• 分类号: TN304.2|TN304.055
• 字数: 2012字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2005.02.025

摘要

采用射频磁控溅射法在玻璃衬底上低温制备出镓掺杂氧化锌(ZnO:Ga)透明导电膜,研究了薄膜的结构、电学和光学性质随薄膜厚度的变化关系.制备的ZnO:Ga是具有六角纤锌矿结构的多晶薄膜,最佳择优取向为(002)方向.随着薄膜厚度的增加,衍射峰明显增强,晶粒增大.薄膜的最低电阻率为3.9×10-4Ω·cm,在可见光范围内平均透过率达到了85%以上.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马瑾	山东大学物理与微电子学院	44	495	13.0	20.0
2	计峰	山东大学物理与微电子学院	23	185	7.0	13.0
3	马洪磊	山东大学物理与微电子学院	58	681	15.0	23.0
4	余旭浒	山东大学物理与微电子学院	11	144	6.0	11.0
5	程传福	山东师范大学物理系	60	372	11.0	16.0
6	张锡健	山东大学物理与微电子学院	18	195	7.0	13.0
7	王玉恒	山东大学物理与微电子学院	10	142	6.0	10.0