脉冲激光沉积Ti50Ni36Cu14薄膜的成分均匀性

• 作者: 李亚东 骆苏华 高伟健
• 来源期刊: 材料科学与工程学报
• 学科: 工学
• 关键词: PLD技术 Ti50Ni36Cu14 合金薄膜 成分均匀性
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 45-47
• 页数: 3页
• 分类号: TN248.2+
• 字数: 2181字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-2812.2005.01.013

摘要

采用脉冲激光沉积(PLD)技术制备了Ti50Ni36Cu14合金薄膜.研究表明,PLD合金薄膜的成分与沉积距离(基片/靶间距)、激光脉冲频率有较大关系.当沉积距离(D)为20～30mm时,可获得成分均匀稳定的合金薄膜;当其它条件相同,激光脉冲频率(F)为5Hz时,合金薄膜与靶成分更为接近.采用PLD技术制备的Ti50Ni36Cu14合金薄膜成分均匀性较好,同时与磁控溅射薄膜相比PLD薄膜的平均成分更加接近靶体.采用本工艺获得的Ti50Ni36Cu14薄膜的平均成分为47.53at.%Ti、38.90 at.% Ni和13.57 at.%Cu.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李亚东	苏州大学材料科学工程学院	41	156	7.0	10.0
2	骆苏华	中科院上海微系统与信息技术研究所	1	3	1.0	1.0
3	高伟健	苏州大学分析测试中心	3	27	2.0	3.0