铁电薄膜/半导体异质结构的研究进展

• 作者: 刘颖 向飞 朱时珍
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 铁电薄膜 异质结构 缓冲层 界面 全钙钛矿
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 页码范围: 450-453,486
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 2737字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2005.03.015

摘要

综述了铁电薄膜/半导体异质结构研究近年来的新进展.重点介绍了异质结构制备工艺的改进和界面的最新研究状况.简单叙述了全钙钛矿异质结构的发展情况.指出了铁电薄膜/半导体异质结构研究领域需要解决的一些问题.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱时珍	北京理工大学材料科学与工程学院	37	203	9.0	12.0
2	刘颖	北京理工大学材料科学与工程学院	57	506	10.0	21.0
3	向飞	北京理工大学材料科学与工程学院	3	13	2.0	3.0