微波等离子刻蚀CVD金刚石膜提高机械研磨效率

• 作者: 汪建华 满卫东 王亚 王俊峰
• 来源期刊: 武汉化工学院学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 金刚石膜 刻蚀 研磨
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 页码范围: 56-59
• 页数: 4页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2236字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-2869.2005.01.017

摘要

针对低温低压化学气相沉积(CVD)金刚石膜表面粗糙且厚薄不均,普通的方法抛光金刚石膜效率低的现象,采用空气等离子刻蚀金刚石膜与机械研磨相结合的抛光工艺,提高了金刚石膜的抛光加工效率.并与纯机械研磨法比较,通过观察样品的表面形貌,说明等离子刻蚀的作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王俊峰	武汉化工学院材料科学与工程学院	4	23	3.0	4.0
2	汪建华	武汉化工学院材料科学与工程学院	57	613	12.0	20.0
3	满卫东	武汉化工学院材料科学与工程学院	12	309	8.0	12.0
4	王亚	武汉化工学院材料科学与工程学院	3	17	2.0	3.0