电沉析条件对钛合金表面液相沉积类金刚石薄膜的影响

• 作者: 沈风雷 王红卫 闻荻江
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 类金刚石薄膜 电解沉积 钛合金 血液相容性
• 年，卷（期）: 2005,（8）
• 所属期刊栏目: 研究与开发
• 页码范围: 1278-1281
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.44|TH117.1
• 字数: 1149字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1001-9731.2005.08.041

摘要

在钛合金表面沉积类金刚石膜能改进钛合金的生物相容性,拓展其在人体植入材料中的应用.探讨了用液相电解沉积法在钛合金表面制备类金刚石薄膜的新方法.讨论了不同沉积条件对膜的影响.在1650和1850V时可以得到坚固的棕色膜.沉积36h后,膜厚基本不变.沉积膜的Raman谱图表明,在1650和1850V沉积得到的是类金刚石薄膜,而在2000V时无法得到类金刚石薄膜.对膜的XPS分析表明,其主要成份是碳.XPS谱还表明在1650V时得到的膜可以将钛合金表面完全覆盖,而在1850V时则不能.以SEM分析表明在1650和1850V时得到的膜是由粒径约为400nm的小颗粒组成,而在2000V时得到只是疏松结构.并对类金刚石膜及钛合金的血液相容性进行了比较.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	闻荻江	苏州大学材料工程学院	113	1183	19.0	29.0
2	王红卫	苏州大学材料工程学院	51	399	11.0	15.0
3	沈风雷	苏州大学材料工程学院	15	82	5.0	8.0