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摘要:
为了从理论上探究介质膜基底光刻胶光栅掩模槽形的检测方法,对此种光栅掩模建立了以C方法为理论基础的衍射效率理论计算的数学模型,并将从实际光栅掩模的SEM照片得出的光栅槽形参数带入到该模型中,得到了一系列-1级衍射光的光谱分布曲线,这些曲线的变化趋势与一定光栅槽形相对应,提出了通过测量衍射光的光谱分布曲线判断光栅槽形的无损检测方法.分析表明,该方法在光栅槽形的检测过程中,可以较为有效地判断光刻胶是否到底,而这一点在掩模的制作工艺中至关重要.
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文献信息
篇名 介质膜光栅槽形无损检测方法的研究
来源期刊 激光技术 学科 工学
关键词 光栅 多层介质膜 脉冲压缩 C方法
年,卷(期) 2005,(4) 所属期刊栏目 测量与防护
研究方向 页码范围 423-425
页数 3页 分类号 TN253
字数 2812字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-3806.2005.04.028
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 吴建宏 苏州大学信息光学工程研究所 66 509 14.0 19.0
2 陈新荣 苏州大学信息光学工程研究所 13 98 6.0 9.0
3 耿康 苏州大学信息光学工程研究所 2 10 2.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
光栅
多层介质膜
脉冲压缩
C方法
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
激光技术
双月刊
1001-3806
51-1125/TN
大16开
四川省成都市238信箱
62-74
1971
chi
出版文献量(篇)
4090
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10
总被引数(次)
25972
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