WSix复合栅薄膜工艺开发

• 作者: 李红征 罗平 陈海峰
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: WSix "Polycide"复合栅 电阻率 RTP退火
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 电路设计与制造
• 页码范围: 37-40
• 页数: 4页
• 分类号: TN405
• 字数: 1485字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1681-1070.2005.03.009

摘要

本文对CVD WSix制造设备及工艺进行了详细的描述,以大量的实验数据为依据,开发出适合本科研生产线WSix复合栅薄膜的工艺标准.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈海峰		10	3	1.0	1.0
2	李红征		7	13	3.0	3.0
3	罗平		1	0	0.0	0.0