光助电催化降解活性艳红X-3B的研究

• 作者: 方涛 李家麟 李晓勤 罗永松
• 来源期刊: 化学工程师
• 学科: 工学
• 关键词: 光催化 光助电催化 钌钛阳极
• 年，卷（期）: 2005,（8）
• 所属期刊栏目: 科研与开发
• 页码范围: 4-7
• 页数: 4页
• 分类号: TQ610.1
• 字数: 2684字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1002-1124.2005.08.002

摘要

以采用溶胶-凝胶法制备固定膜Bu/TiO2光催化剂的钛网为基材,并对其施加不同的电压和电流,对活性艳红X-3B印染废水进行了光助电催化研究,讨论了阳极电流、不同电解质、pH值以及Cl浓度对活性艳红X-3B降解效率的影响规律,并比较了光助电催化降解与光催化降解、电解处理对活性艳红降解率的差异.结果表明:相同条件下,光助电催化降解X-3B的速率明显快于单纯的电解和光催化降解速率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李家麟	华中师范大学纳米科技研究院	28	441	11.0	20.0
2	罗永松	华中师范大学纳米科技研究院	14	138	7.0	11.0
3	李晓勤	华中师范大学纳米科技研究院	9	101	6.0	9.0
4	方涛	华中师范大学纳米科技研究院	7	79	4.0	7.0