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二芳烯材料在重复擦写体全息存储中的应用研究
二芳烯材料在重复擦写体全息存储中的应用研究
作者:
刘国栋
汪胜前
王建敏
蒲守智
邹道文
骆守俊
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
二芳烯材料
体全息存储
折射率调制度
摘要:
二芳烯材料是一种性能优异的光致色变材料,具有很好的抗疲劳性能,一般能重复擦写上万次,而不损失其性能.通过体全息光栅记录实验、角度复用体全息存储实验、重复擦写及强光记弱光读等实验,对二芳烯材料在重复擦写体全息存储中的应用进行了系统研究.由于二芳烯材料具有很高的折射率调制度(Δn=1.15×10-3)、可多次重复擦写、强光记弱光读的准非易失等性能,在可重复擦写的体全息存储中具有广阔的应用前景.
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文献信息
篇名
二芳烯材料在重复擦写体全息存储中的应用研究
来源期刊
光学技术
学科
工学
关键词
二芳烯材料
体全息存储
折射率调制度
年,卷(期)
2005,(5)
所属期刊栏目
信息光学
研究方向
页码范围
717-718,722
页数
3页
分类号
TN26
字数
1347字
语种
中文
DOI
10.3321/j.issn:1002-1582.2005.05.039
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
蒲守智
江西科技师范学院光电子与通信省重点实验室
15
70
3.0
8.0
2
刘国栋
江西科技师范学院光电子与通信省重点实验室
29
169
8.0
11.0
6
王建敏
江西科技师范学院光电子与通信省重点实验室
17
63
4.0
6.0
7
骆守俊
清华大学精密测试技术及仪器国家重点实验室
2
7
2.0
2.0
8
汪胜前
江西科技师范学院光电子与通信省重点实验室
28
206
8.0
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参考文献(1)
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参考文献(1)
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参考文献(0)
二级参考文献(0)
引证文献(0)
二级引证文献(0)
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二级引证文献(0)
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引证文献(1)
二级引证文献(0)
2011(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
2013(1)
引证文献(0)
二级引证文献(1)
2017(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
2018(1)
引证文献(1)
二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
二芳烯材料
体全息存储
折射率调制度
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
光学技术
主办单位:
北京兵工学会
北京理工大学
中国北方光电工业总公司
出版周期:
双月刊
ISSN:
1002-1582
CN:
11-1879/O4
开本:
大16开
出版地:
北京市海淀区中关村南大街5号
邮发代号:
2-830
创刊时间:
1975
语种:
chi
出版文献量(篇)
4591
总下载数(次)
6
总被引数(次)
42622
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