CoNiWP合金化学镀过程中镀层磁性能的变化

• 作者: 李丹虹 杨章富 王晋春 程旭东
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 化学镀 Co-Ni-W-P合金 磁性能
• 年，卷（期）: 2005,（4）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 15-17
• 页数: 3页
• 分类号: TQ153
• 字数: 2560字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2005.04.005

摘要

采用化学镀法在NiTi形状记忆合金基体表面镀覆CoNiWP磁性薄膜.用扫描电镜表征镀层形貌,结果表明,化学镀开始初期,镀层颗粒比较细微(直径1～10μm),后来逐渐长大成胞状结构(直径10～40μm),而镀层在基体上的产生是从催化活性比较高的部位开始产生,然后逐渐向整个基体表面蔓延,进而覆盖整个表面.用振动磁强计测试样品的磁性能,结果表明,镀覆的金属薄膜是无定形结构并具有较好的磁性能,其矫顽力是随化学镀进程逐渐增大到一定值后再逐渐下降.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程旭东	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	59	350	10.0	15.0
2	李丹虹	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	7	88	4.0	7.0
3	王晋春	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	6	86	4.0	6.0
4	杨章富	武汉理工大学材料复合新技术国家重点实验室	6	49	4.0	6.0