纳米压印光刻技术及其发展现状

• 作者: 李洪珠
• 来源期刊: 电子与封装
• 学科: 工学
• 关键词: 压印光刻 发展状况
• 年，卷（期）: 2005,（12）
• 所属期刊栏目: 综述
• 页码范围: 1-5
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 3595字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1681-1070.2005.12.001

摘要

文章详细介绍了有望成为下一代主流的光刻技术--纳米压印光刻技术.并概述了其应用,同时介绍了其在现阶段的发展状况.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李洪珠		3	25	1.0	3.0