热丝辅助MW ECR CVD技术高速沉积高质量氢化非晶硅薄膜

• 作者: 周怀恩 朱秀红 胡跃辉 阴生毅 陈光华
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 氢化非晶硅 氢稀释率 电子回旋共振化学气相沉积 光敏性
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 页码范围: 471-474
• 页数: 4页
• 分类号: TN304
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2005.03.019

摘要

氢化非晶硅薄膜具有优异的光电特性,在制备薄膜太阳能电池中有重要的应用.本文采用热丝辅助MWECR CVD技术,通过调整各种工艺参数,制备了高沉积速率(DR＞2.5nm/s)及高光敏性(σph/σD＞105)的氢化非晶硅薄膜.实验表明,在衬底表面温度的分布中,热丝辐射和离子轰击引起的温度对薄膜的光敏性影响较大;在薄膜沉积的最后几分钟适当加大H2稀释率,有利于薄膜光电特性的改善.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈光华	北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室	65	396	11.0	16.0
2	胡跃辉	北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室	8	34	4.0	5.0
3	阴生毅	北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室	9	34	3.0	5.0
4	朱秀红	北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室	8	42	4.0	6.0
5	周怀恩	北京工业大学新型功能材料教育部重点实验室	3	9	2.0	3.0