纵向应力法制作双波长布喇格光栅

• 作者: 姜莉 开桂云 张东生 张伟刚 董孝义
• 来源期刊: 量子电子学报
• 学科: 工学
• 关键词: 导波光学 布喇格光栅 双波长布喇格光栅 矩阵分析法
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 纤维与波导光学
• 页码范围: 98-101
• 页数: 4页
• 分类号: TN253
• 字数: 1888字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1007-5461.2005.01.019

摘要

介绍了一种用一个均匀相位模板制作双波长布喇格光栅的方法;对这种方法制作的双波长布喇格光栅进行了理论分析,用矩阵分析法,对其进行了数值模拟.采用了移动曝光技术,通过调节所加应力的大小、光栅长度及曝光次数可以控制两个布喇格波长的间隔和反射率;写制了一个双波长光栅,两个透射峰均为19.5 dB,两个布喇格波长的间隔为0.78 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张伟刚	南开大学现代光学所	88	1415	22.0	34.0
2	开桂云	南开大学现代光学所	127	2577	29.0	42.0
3	董孝义	南开大学现代光学所	296	5721	37.0	55.0
4	张东生	南开大学现代光学所	12	150	7.0	12.0
5	姜莉	南开大学现代光学所	11	147	7.0	11.0