成品率驱动的光刻校正技术

• 作者: 王国雄
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 光学邻近校正 移相掩模 可制造性设计
• 年，卷（期）: 2005,（6）
• 所属期刊栏目: 技术专栏(光刻技术)
• 页码范围: 10-13
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.7
• 字数: 2545字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2005.06.004

摘要

光刻校正技术已成为超深亚微米下集成电路设计和制光刻校正技术的基本原理以及在IC设计中使用这些技术需要注意的问题,为可制造性设计提供有价值的指导.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王国雄	浙江大学超大规模集成电路设计研究所	20	98	6.0	9.0