研发≤65nm工艺的最新进展

• 作者: 缪彩琴 翁寿松
• 来源期刊: 集成电路应用
• 关键词: 65nm工艺 45nm工艺 32nm工艺 5nm工艺
• 年，卷（期）: 2005,（1）
• 所属期刊栏目: 市场综述
• 页码范围: 8-11
• 页数: 4页
• 字数: 4902字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-2583.2005.01.003

摘要

本文介绍了当前世界顶级半导体公司、材料公司、设备公司和微电子科研中心研发65nm、45nm、32nm和5nm工艺的最新进展和成果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	翁寿松		95	534	13.0	18.0
2	缪彩琴		5	44	3.0	5.0