植酸盐缓蚀剂及其机理研究

• 作者: 刘会茹 庞登甲 徐智策 王春芳 赵地顺
• 来源期刊: 高等学校化学学报
• 学科: 化学
• 关键词: 极化曲线 循环伏安 交流阻抗 缓蚀剂 缓蚀机理
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 页码范围: 334-336
• 页数: 3页
• 分类号: O636
• 字数: 2398字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0251-0790.2005.02.026

摘要

在研究锌锰干电池缓蚀剂的基础上, 筛选出了缓蚀效果较好的植酸盐缓蚀剂. 实验结果表明, 植酸盐的最佳质量分数为0.01%. 用循环伏安仪和交流阻抗进一步对其缓蚀机理进行了研究, 得出植酸盐的缓蚀机理为化学吸附过程.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵地顺	河北科技大学化学与制药工程学院	197	2213	26.0	35.0
2	刘会茹	河北科技大学化学与制药工程学院	14	100	7.0	9.0
3	徐智策	河北科技大学化学与制药工程学院	34	308	11.0	16.0
4	庞登甲	河北科技大学化学与制药工程学院	4	45	2.0	4.0
5	王春芳	河北科技大学化学与制药工程学院	26	234	9.0	14.0