磁控溅射法制备氮化碳薄膜的研究进展

• 作者: 刘军 张兴国 李忠学 毕凯 陈志刚 陈春
• 来源期刊: 材料导报
• 关键词: 磁控溅射 氮化碳 薄膜
• 年，卷（期）: 2005,（z1）
• 所属期刊栏目: 结构材料与表面处理
• 页码范围: 372-374
• 页数: 3页
• 字数: 3212字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1005-023X.2005.z1.121

摘要

简要评述了磁控溅射法制备氮化碳(CNx)薄膜的研究进展的现状,以及磁控溅射法制备氮化碳(CNx)薄膜过程中工艺参数对薄膜的结构和性能的影响,展望了氮化碳研究的发展趋势.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈志刚		90	1299	21.0	30.0
2	刘军	江苏大学材料学院	150	980	14.0	22.0
3	毕凯		9	51	4.0	6.0
4	陈春	江苏大学材料学院	8	41	4.0	6.0
5	张兴国	江苏大学材料学院	3	9	2.0	3.0
6	李忠学	江苏大学材料学院	2	11	2.0	2.0