用透过率测试曲线确定半导体薄膜的光学常数和厚度

• 作者: 刘旭 叶辉 朱勇 沈伟东 邹桐 顾培夫
• 来源期刊: 半导体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜材料 光学常数 透过率曲线 Forouhi-Bloomer模型 单纯形法
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 335-340
• 页数: 6页
• 分类号: O484.5
• 字数: 3771字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0253-4177.2005.02.022

摘要

介绍了一种简单而准确地确定薄膜光学常数和厚度的方法.借助于Forouhi-Bloomer物理模型,用改进的单纯形法拟合分光光度计透过率测试曲线,获得半导体薄膜的光学常数和厚度.对射频磁控溅射和直流反应溅射制备的玻璃基板上的α-Si和ZnO薄膜进行了实验,拟合的理论曲线和实验曲线吻合得非常好.计算得到的结果与文献报道的结果和台阶仪的测量结果一致,误差小于4%.该方法对无定形或多晶的半导体薄膜都适用,也可以用于计算厚度较薄的薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱勇	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	24	211	7.0	14.0
2	沈伟东	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	39	296	8.0	16.0
3	叶辉	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	50	406	9.0	18.0
4	顾培夫	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	141	1761	23.0	34.0
5	刘旭	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	214	1718	22.0	32.0
6	邹桐	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	3	40	2.0	3.0