日光温室黄瓜秋冬茬高产栽培适宜密度的研究

• 作者: 何莉莉 艾民 陈晓磊
• 来源期刊: 农村实用工程技术·温室园艺
• 学科: 农学
• 关键词: 日光温室 秋冬茬 黄瓜 高产 适宜密度
• 年，卷（期）: 2005,（2）
• 所属期刊栏目: 研究报道
• 页码范围: 18-21
• 页数: 4页
• 分类号: S642
• 字数: 3707字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-5404-B.2005.02.003

摘要

该试验通过4个密度处理,探讨了提高北方保护地秋冬茬黄瓜产量的适宜栽培密度.结果表明,随着种植密度的减小,植株所受的光照度及地温逐渐升高;茎粗逐渐增加,节数,叶面积指数(LAI)和株高逐渐减小,根系活力呈上升趋势;功能叶片净光合速率及各层次叶片净光合速率逐渐增加;产量也逐渐增加.经过秋冬季节,历时4个月的栽培,其中株距为35cm,大行距为70cm,小行距为60cm,密度为每hm24.43万株,产量提高(为3075Kg/667m2);该密度条件下,植株的环境指标、生长发育指标、光合指标、品质指标和产量都表现出较高的水平.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	何莉莉	沈阳农业大学园艺学院	33	338	10.0	17.0
2	艾民	沈阳农业大学园艺学院	2	29	2.0	2.0
3	陈晓磊	沈阳农业大学园艺学院	1	4	1.0	1.0