微小激光加工区辐射测温系统的调焦

• 作者: 叶玉堂 吴云峰 张雪琴 杨先明 秦宇伟
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 激光技术 半导体 辐射测温 调焦
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 激光应用
• 页码范围: 702-706
• 页数: 5页
• 分类号: TN665
• 字数: 3360字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:0258-7025.2005.05.028

摘要

将红外辐射测温系统用于半导体基片表面温度测量时,系统的调焦状况将影响测温结果的准确性.对这种影响进行了理论计算.结果表明,当被测高温区面积较大时,可以允许较大的调焦范围.但在激光诱导扩散等激光微细加工工艺中,曝光区直径仅数十微米量级,对系统的调焦提出了较高的要求.计算了在可见光波段和近红外波段两种情况下系统成像物镜的焦距.当成像物镜在波长为0.546μm时的焦距为30 mm,并固定像距为196 mm时,得到在波长为1.335μm时的物距比波长为0.546μm时大1.33 mm.利用这个结果,结合在不同物距时系统对被测高温区进行扫描得到的温度分布,提出了调焦的方法.利用该方法,系统物距可调节到最佳物距为中心±0.05 mm的范围内,满足了微小面元温度测量的要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吴云峰	电子科技大学光电信息学院	106	653	13.0	18.0
2	叶玉堂	电子科技大学光电信息学院	170	1471	17.0	30.0
3	张雪琴	电子科技大学光电信息学院	6	22	3.0	4.0
4	杨先明	电子科技大学光电信息学院	16	114	7.0	10.0
5	秦宇伟	电子科技大学光电信息学院	9	30	3.0	5.0