P型掺杂金刚石厚膜的电火花加工

• 作者: 卢文壮 左敦稳 曹振中 黎向锋
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 金刚石厚膜 电火花加工 去除速率 掺硼
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 页码范围: 565-570
• 页数: 6页
• 分类号: TB43|TG66
• 字数: 3573字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-985X.2005.03.040

摘要

CVD金刚石具有和天然金刚石相近的一系列独特的力学、热学、声学、电学、光学和化学性能,在航空、航天、国防等高科技领域具有广阔的应用前景.但是,普通CVD金刚石膜是绝缘体,无法直接进行电加工.本文在分析了电火花加工半导体材料去除速率的基础上,通过掺硼对CVD金刚石厚膜进行半导体改性,继而实现了其电火花加工.通过研究,建立了掺硼金刚石厚膜电火花加工去除速率的经验公式.最后,通过Raman和SEM分析对CVD金刚石厚膜的电火花加工机理进行了初步探讨.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢文壮	南京航空航天大学机电学院	94	520	12.0	17.0
2	左敦稳	南京航空航天大学机电学院	510	3780	26.0	32.0
3	黎向锋	南京航空航天大学机电学院	109	810	15.0	20.0
4	曹振中	南京航空航天大学机电学院	5	26	3.0	5.0