硼掺杂对金刚石薄膜生长特性的影响

• 作者: 余庆选 刘卫平 廖源 方容川 王冠中 田宇全
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 孪晶 HFCVD 硼掺杂 金刚石薄膜
• 年，卷（期）: 2005,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1270-1274
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 1940字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2005.05.040

摘要

采用HFCVD方法制备了掺硼金刚石薄膜,通过扫描电子显微镜和X射线衍射光谱对样品的表面形貌及结构进行了分析.结果表明,随着硼含量的增加,薄膜中晶粒的取向由(100)变为(111),然后趋向于无序化.硼的掺入同样影响到孪晶晶粒的形态及生长因子α,使得α变小.通过对样品的Raman光谱分析,得出在适当的硼掺杂浓度下,孪晶的出现使金刚石薄膜中的应力得到松弛,从而中心声子线Raman位移红移较小.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	廖源	中国科学技术大学物理系	12	95	5.0	9.0
2	余庆选	中国科学技术大学结构分析中心	7	39	4.0	6.0
3	王冠中	中国科学技术大学结构分析中心	12	58	5.0	7.0
4	方容川	中国科学技术大学物理系	8	98	5.0	8.0
5	刘卫平	中国科学技术大学结构分析中心	1	9	1.0	1.0
6	田宇全	中国科学技术大学物理系	1	9	1.0	1.0