氩离子注入单晶硅表面的微观结构和微观力学性能研究

• 作者: 孙蓉 寇冠涛 徐洮 薛群基
• 来源期刊: 无机材料学报
• 学科: 工学
• 关键词: 单晶硅 氩离子注入 纳米划痕 断裂韧性
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 简报
• 页码范围: 759-763
• 页数: 5页
• 分类号: TQ174
• 字数: 3271字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1000-324X.2005.03.040

摘要

通过离子注入技术对单晶硅表面进行氩离子注入处理,利用纳米压痕仪及其附件研究了单晶硅表面在离子注入前、后的微观力学性能和变形机理,并用透射电子显微镜研究了改性层的微观结构.研究结果表明:一定剂量的氩离子注入使单晶硅表面的断裂韧性得到改善,提高了其在纳米划痕过程中的失效负荷.原因是氩离子的注入使单晶硅表面形成了硅的微晶态与非晶态共存的混合态结构的改性层,改善了单晶硅的微观力学性能.关词:单晶硅;氩离子注入;纳米划痕;断裂韧性

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	薛群基	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	219	3991	32.0	53.0
2	徐洮	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	75	815	16.0	23.0
3	孙蓉	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	56	369	12.0	16.0
7	寇冠涛	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	1	7	1.0	1.0