湿法腐蚀DFB半导体激光器的均匀光栅的研究

• 作者: 张世祖 花吉珍 郭艳菊 陈国鹰 高丽艳
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 化学湿法腐蚀 DFB半导体激光器 扫描电子显微镜 电子束光刻
• 年，卷（期）: 2005,（8）
• 所属期刊栏目: 制造技术
• 页码范围: 41-44
• 页数: 4页
• 分类号: TN305.2
• 字数: 2389字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353X.2005.08.012

摘要

论述了用湿法腐蚀电子束光刻的均匀光栅DFB激光器亚微米光栅的过程,研究了几种腐蚀液对半导体激光器外延材料中InP的腐蚀过程.用扫描电子显微镜(SEM)对其腐蚀情况进行了分析,通过调节腐蚀液HB1:HNO3:H2O的体积比,找到了对InP腐蚀的最佳配比(1:1:30)以及合适的腐蚀条件(室温23℃).利用这种腐蚀液得到的光栅图形可以满足DFB激光器的要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈国鹰	河北工业大学信息工程学院微电子所	62	307	9.0	12.0
2	花吉珍	中国电子科技集团公司第十三研究所光电专业部	18	74	5.0	7.0
3	张世祖	中国电子科技集团公司第十三研究所光电专业部	12	54	5.0	7.0
4	高丽艳	河北工业大学信息工程学院微电子所	3	28	3.0	3.0
8	郭艳菊	中国电子科技集团公司第十三研究所光电专业部	2	21	2.0	2.0