16×0.8nmSi基SiO2阵列波导光栅设计、制备及测试

• 作者: 安俊明 李健 王红杰 胡雄伟
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 光波导 波分复用/解复用器 阵列波导光栅
• 年，卷（期）: 2005,（3）
• 所属期刊栏目: 光学元器件
• 页码范围: 349-350,353
• 页数: 3页
• 分类号: TN253
• 字数: 1465字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3321/j.issn:1002-1582.2005.03.043

摘要

叙述了一个完整的16通道硅基二氧化硅阵列波导光栅(AWG)的设计、制备及测试过程.通道间隔为0.8nm(100 GHz),解复用器的插入损耗为16.8dB,其中材料损耗为11.95dB,相邻通道串扰小于-17dB,通道插损非均匀性小于2.2dB.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	安俊明	中国科学院半导体研究所	45	77	5.0	6.0
2	王红杰	中国科学院半导体研究所	32	93	6.0	7.0
3	胡雄伟	中国科学院半导体研究所	41	134	6.0	9.0
4	李健	中国科学院半导体研究所	92	1070	17.0	31.0