邻甲基苯甲醛的"槽内式"间接电合成

• 作者: 于站良 刘小平 周秀林 易清风 范敏
• 来源期刊: 应用化学
• 学科: 化学
• 关键词: 邻甲基苯甲醛 氧电还原 氧还电对V5+/V4+ 邻二甲苯 电解
• 年，卷（期）: 2005,（10）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 1127-1131
• 页数: 5页
• 分类号: O621.3|TQ612.2
• 字数: 3545字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1000-0518.2005.10.019

摘要

在V5+离子存在的硫酸溶液中,通过往阴极表面不断通入氧气,一步直接将邻二甲苯氧化为邻甲基苯甲醛. 研究了硫酸浓度、电流密度、反应温度、反应时间、V5+浓度以及表面活性剂CTAB等因素对电流效率影响. 结果表明,在硫酸浓度为10 mol/L,CTAB浓度为0.001 mol/L,反应温度60 ℃,电流密度为1.5×10-3 A/cm2及反应时间为3 h的条件下,产生邻甲基苯甲醛的电流效率达155.2%. 电解后的水溶液相循环使用4次的电流效率分别为151.0%、147.1%、150.0%和148.6%,保证了整个过程无废液排放,符合绿色化学要求.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	易清风	湖南科技大学化学化工学院	68	285	9.0	12.0
2	刘小平	湖南科技大学化学化工学院	21	88	6.0	8.0
3	周秀林	湖南科技大学化学化工学院	24	107	6.0	9.0
4	范敏	中国船舶重工集团公司第七一八所净化设备工程部	4	21	2.0	4.0
5	于站良	昆明理工大学材料与冶金工程学院	2	1	1.0	1.0